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超薄Si片
產品概述:
化學符號為Si,主要用途有:制作半導體器件、紅外光學器件及太陽能電池襯底等材料。
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產品參數

 摻雜物質

 摻B

 摻P

 類型

 P

 N

 電阻率Ω.cm

 10-3 ~ 40

 10-3 ~ 40

 EPD(cm-2 )

 ≤100

 ≤100

 氧含量( /cm3 )

 ≤1.8 x1018

 ≤1.8 x1018

 碳含量( /cm3 )

 ≤5x1016

 ≤5x101

常規尺寸

晶體方向:<111>; <100>; <110> ± 0.5°  或特殊的方向

常規尺寸:dia2"x0.1mm、 dia2"x0.2 mm;

尺寸公差:dia2"直徑公差±0.4mm;厚度公差±25um;

表面粗糙度:Ra<10A

同時可提供熱氧化SiO2層的Si片;Si+SiO2+Ti+Pt的基!歡迎您的咨詢!

備注

1000級超凈室100級超凈袋單片盒或25片插盒封裝

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